鍺基石墨烯能帶加工:錳合金化插層
作者：崔奮為; 胡旭東; 朱海龍; 黃本銳; 馬妮; 李昂 中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所信息功能材料國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室; 上海200050; 中國科學(xué)院大學(xué); 北京100049; 上?？萍即髮W(xué)物質(zhì)科學(xué)與技術(shù)學(xué)院量子電子學(xué)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室; 上海201210
摘要：在石墨烯或其異質(zhì)結(jié)中引入帶隙是石墨烯能帶工程研究的重要課題。借助合金化的方法在石墨烯和鍺[Ge(110)]襯底之間成功插入二維Mn-Ge合金島,并對此異質(zhì)結(jié)構(gòu)開展微觀原子結(jié)構(gòu)及低能電子激發(fā)的掃描隧道顯微學(xué)研究。在不同石墨烯覆蓋度的樣品中,發(fā)現(xiàn)了一維納米線和二維平板合金島插層,在缺乏石墨烯保護(hù)的合金表面,二維合金島可以恢復(fù)三維生長。Mn-Ge合金納米線和二維島插層使石墨烯分別打開了400meV和200meV的能隙,為改變石墨烯的能帶結(jié)構(gòu)提供了可行的方法。
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