摘要：通過分析磁流變拋光的材料去除特征、誤差功率譜密度的定量計算方法、敏感頻率誤差的演變規(guī)律,探索誤差頻譜與去除函數、走刀方式、走刀步距等加工參數的對應關系,為工藝過程的合理控制提供指導。典型強光光學零件磁流變拋光的實驗結果表明,通過優(yōu)化工藝參數,能夠大幅修正低頻誤差、控制中高頻誤差,保證0.03~8.3mm-1頻段誤差全部滿足NIF評價指標要求。