14 nm工藝光刻對(duì)準(zhǔn)之異常問題與對(duì)策分析
作者：鄭華明; 徐曉敏; 黃俊 上海華力集成電路制造有限公司; 上海201317
摘要：探討14 nm工藝生產(chǎn)過程中,在光刻晶圓對(duì)準(zhǔn)時(shí)遇到的異常問題及其解決方案。通過預(yù)對(duì)準(zhǔn)溫控單元TSU與14 nm產(chǎn)品晶圓高度的有效控制,可有效改善對(duì)準(zhǔn)異常問題且套刻精度OVL狀況保持不變。
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