Journal Title：Microelectronic Engineering
Microelectronic Engineering is the premier nanoprocessing, and nanotechnology journal focusing on fabrication of electronic, photonic, bioelectronic, electromechanic and fluidic devices and systems, and their applications in the broad areas of electronics, photonics, energy, life sciences, and environment. It covers also the expanding interdisciplinary field of "more than Moore" and "beyond Moore" integrated nanoelectronics / photonics and micro-/nano-/bio-systems. Through its unique mixture of peer-reviewed articles, reviews, accelerated publications, short and Technical notes, and the latest research news on key developments, Microelectronic Engineering provides comprehensive coverage of this exciting, interdisciplinary and dynamic new field for researchers in academia and professionals in industry.
《微電子工程》是首屈一指的納米加工和納米技術(shù)期刊，專注于電子、光子、生物電子、機(jī)電和流體設(shè)備和系統(tǒng)的制造，以及它們?cè)陔娮印⒐庾訉W(xué)、能源、生命科學(xué)和環(huán)境等廣泛領(lǐng)域的應(yīng)用。它還涵蓋了不斷擴(kuò)展的跨學(xué)科領(lǐng)域，即“超過(guò)摩爾”和“超越摩爾”集成納米電子學(xué)/光子學(xué)和微/納米/生物系統(tǒng)。通過(guò)其獨(dú)特的同行評(píng)審文章、評(píng)論、加速出版物、簡(jiǎn)短和技術(shù)說(shuō)明以及有關(guān)關(guān)鍵發(fā)展的最新研究新聞的混合，《微電子工程》為學(xué)術(shù)界研究人員和行業(yè)專業(yè)人士提供了對(duì)這一令人興奮、跨學(xué)科且充滿活力的新領(lǐng)域的全面報(bào)道。
Microelectronic Engineering創(chuàng)刊于1983年，由Elsevier出版商出版，收稿方向涵蓋工程技術(shù) - 工程：電子與電氣全領(lǐng)域，此期刊水平偏中等偏靠后，在所屬細(xì)分領(lǐng)域中專業(yè)影響力一般，過(guò)審相對(duì)較易，如果您文章質(zhì)量佳，選擇此期刊，發(fā)表機(jī)率較高。平均審稿速度 約6.0個(gè)月 ，影響因子指數(shù)2.6，該期刊近期沒有被列入國(guó)際期刊預(yù)警名單，廣大學(xué)者值得一試。
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
名詞解釋：
中科院分區(qū)也叫中科院JCR分區(qū)，基礎(chǔ)版分為13個(gè)大類學(xué)科，然后按照各類期刊影響因子分別將每個(gè)類別分為四個(gè)區(qū)，影響因子5%為1區(qū)，6%-20%為2區(qū)，21%-50%為3區(qū)，其余為4區(qū)。
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
名詞解釋：
WOS即Web of Science，是全球獲取學(xué)術(shù)信息的重要數(shù)據(jù)庫(kù)，Web of Science包括自然科學(xué)、社會(huì)科學(xué)、藝術(shù)與人文領(lǐng)域的信息，來(lái)自全世界近9,000種最負(fù)盛名的高影響力研究期刊及12,000多種學(xué)術(shù)會(huì)議多學(xué)科內(nèi)容。給期刊分區(qū)時(shí)會(huì)按照某一個(gè)學(xué)科領(lǐng)域劃分，根據(jù)這一學(xué)科所有按照影響因子數(shù)值降序排名，然后平均分成4等份，期刊影響因子值高的就會(huì)在高分區(qū)中，最后的劃分結(jié)果分別是Q1，Q2，Q3，Q4，Q1代表質(zhì)量最高。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore排名 | ||||||||||||||||||||||||
| 5.3 | 0.503 | 0.847 |
|
名詞解釋：
CiteScore：衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)。
SJR:SCImago 期刊等級(jí)衡量經(jīng)過(guò)加權(quán)后的期刊受引用次數(shù)。引用次數(shù)的加權(quán)值由施引期刊的學(xué)科領(lǐng)域和聲望 (SJR) 決定。
SNIP:每篇文章中來(lái)源出版物的標(biāo)準(zhǔn)化影響將實(shí)際受引用情況對(duì)照期刊所屬學(xué)科領(lǐng)域中預(yù)期的受引用情況進(jìn)行衡量。
| 是否OA開放訪問(wèn)： | h-index： | 年文章數(shù)： |
| 未開放 | 89 | 100 |
| Gold OA文章占比： | 2021-2022最新影響因子（數(shù)據(jù)來(lái)源于搜索引擎）: | 開源占比（OA被引用占比）： |
| 15.94% | 2.6 | 0.03... |
| 研究類文章占比：文章 ÷（文章 + 綜述） | 期刊收錄： | 中科院《國(guó)際期刊預(yù)警名單（試行）》名單： |
| 91.00% | SCIE | 否 |
歷年IF值(影響因子)：
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量：
歷年中科院JCR大類分區(qū)數(shù)據(jù)：
歷年自引數(shù)據(jù)：
2023-2024國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 國(guó)家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| CHINA MAINLAND | 104 |
| South Korea | 80 |
| France | 56 |
| USA | 47 |
| Japan | 45 |
| GERMANY (FED REP GER) | 41 |
| India | 36 |
| Taiwan | 31 |
| Greece | 27 |
| Italy | 27 |
2023-2024機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)：
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE ... | 38 |
| CEA | 22 |
| COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE A... | 18 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 15 |
| FUDAN UNIVERSITY | 14 |
| TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK | 13 |
| AUTONOMOUS UNIVERSITY OF BARCELO... | 12 |
| CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERC... | 12 |
| NATIONAL CENTRE OF SCIENTIFIC RE... | 12 |
| CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIO... | 10 |
近年引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| APPL PHYS LETT | 348 |
| J APPL PHYS | 170 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 165 |
| LAB CHIP | 157 |
| IEEE ELECTR DEVICE L | 115 |
| SCI REP-UK | 106 |
| OPT EXPRESS | 103 |
| ADV MATER | 96 |
| J ELECTROCHEM SOC | 95 |
近年被引用統(tǒng)計(jì)：
| 期刊名稱 | 數(shù)量 |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| ECS J SOLID STATE SC | 204 |
| MICROMACHINES-BASEL | 153 |
| JPN J APPL PHYS | 148 |
| MATER RES EXPRESS | 130 |
| APPL SURF SCI | 127 |
| J MATER SCI-MATER EL | 127 |
| ACS APPL MATER INTER | 114 |
| MATERIALS | 94 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 93 |
近年文章引用統(tǒng)計(jì)：
| 文章名稱 | 數(shù)量 |
| Beyond the lateral flow assay: A... | 40 |
| 3D printed microfluidics and mic... | 36 |
| Brain-inspired computing with re... | 36 |
| Emerging trends in wide band gap... | 32 |
| Focused electron beam induced de... | 29 |
| Micropumps and biomedical applic... | 25 |
| Conduction mechanisms, dynamics ... | 17 |
| Beyond 100 nm resolution in 3D l... | 17 |
| Microfluidic platforms for cell ... | 17 |
| Using block copolymers as infilt... | 11 |
| 同小類學(xué)科的其他優(yōu)質(zhì)期刊 | 影響因子 | 中科院分區(qū) |
| International Journal Of Ventilation | 1.1 | 4區(qū) |
| Journal Of Energy Storage | 8.9 | 2區(qū) |
| Journal Of Environmental Chemical Engineering | 7.4 | 2區(qū) |
| Complexity | 1.7 | 4區(qū) |
| Chemical Engineering Journal | 13.3 | 1區(qū) |
| International Journal Of Hydrogen Energy | 8.1 | 2區(qū) |
| Electronics | 2.6 | 3區(qū) |
| Aerospace | 2.1 | 3區(qū) |
| Buildings | 3.1 | 3區(qū) |
| Shock Waves | 1.7 | 4區(qū) |
若用戶需要出版服務(wù)，請(qǐng)聯(lián)系出版商：ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。
