摘要:在原位合成不同n(Si)∶n(Al)的方鈉石(sodalites,SOD)過程中加入Pt的前驅(qū)體Pt(NH3)4Cl2,制備得到不同n(Si)∶n(Al)、封裝Pt的方鈉石(Pt@SOD),并通過原子吸收光譜、XRD、SEM、EDS、TEM、XPS等測試方法對Pt粒子封裝效果進行表征。由表征之間的相互印證可以說明:Pt@SOD系列樣品的Pt封裝效果較好,Pt粒子在方鈉石中均勻分散且粒徑較為統(tǒng)一,但是表面仍有微量的Pt殘留。將該系列樣品作為催化劑用于H2、O2直接制備過氧化氫反應,Pt粒子較好的封裝效果以及方鈉石微小孔道(半徑0.28nm)可有效阻止O2分子與封裝的Pt粒子接觸,限制副反應產(chǎn)物H2O生成,且H2可自由擴散,與Pt活性位點接觸,從而使得Pt@SOD系列樣品在H2、O2直接制備過氧化氫反應中,表現(xiàn)出了較好的H2O2選擇性。其中,Pt@SOD-(Ⅱ)-n(Si)∶n(Al)=3混合n(Si)∶n(Al)=25的HZSM-5為催化劑,在2℃下反應1h時H2O2選擇性達到44%.
注:因版權方要求,不能公開全文,如需全文,請咨詢雜志社