摘要：用CH4,H2和NH3為反應(yīng)氣體,利用等離子體增強熱絲化學(xué)氣相沉積在沉積有碳膜的Si襯底上制備了碳納米尖端。用原子力顯微鏡和微區(qū)Raman光譜儀對碳膜進行了表征,結(jié)果表明,碳膜是粗糙不平的非晶碳膜。用掃描電子顯微鏡研究了不同條件下生長的碳納米尖端,結(jié)果表明,碳納米尖端的形成與離子的轟擊有關(guān)。根據(jù)實驗結(jié)果,利用離子沉積和濺射等有關(guān)的理論建立了碳納米尖端形成的三維理論模型,并利用該模型對實驗結(jié)果進行了解釋,它將對控制碳納米尖端的生長和應(yīng)用研究有很大的意義。