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超臨界流體在微電子器件清洗中的應(yīng)用
作者：李志義; 劉學(xué)武; 張曉冬; 夏遠(yuǎn)景; 胡大鵬 大連理工大學(xué)流體與粉體工程研究設(shè)計(jì)所; 遼寧; 116012
摘要：本文介紹了超臨界流體及其特性、超臨界流體清洗工藝及特點(diǎn).結(jié)合現(xiàn)有的研究結(jié)果,論述了在微電子加工中應(yīng)用超臨界流體的可行性和有效性.并以硅片的清洗和干燥為例,說(shuō)明了超臨界CO2的應(yīng)用優(yōu)勢(shì),指出了超臨界流體在微電子技術(shù)中尚需要解決的技術(shù)問(wèn)題及其廣闊的應(yīng)用前景.
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