摘要：基于我國上市企業(yè)2011~2016年的面板數(shù)據(jù),在考慮資本深化因素的基礎上,本文采用門檻回歸技術實證分析了研發(fā)創(chuàng)新對企業(yè)技術進步的非線性影響,并進一步揭示其異質(zhì)門檻特征。結(jié)果表明:研發(fā)創(chuàng)新投入對企業(yè)技術進步的影響存在顯著的門檻效應,其過程受限于資本深化程度的差異,資本深化程度不足和過度都會阻礙研發(fā)投入對技術進步的促進作用。另外,研發(fā)創(chuàng)新投入對企業(yè)技術進步的非線性影響存在明顯的行業(yè)、所有制及區(qū)域異質(zhì)性特征。因此,實施差異化的研發(fā)政策、提高研發(fā)資源管理能力及控制資本深化程度應是促進企業(yè)技術進步的有效措施。