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ICP-MS檢測(cè)多晶硅表金屬雜質(zhì)的研究

作者:張嘯虎 多晶硅國(guó)家工程實(shí)驗(yàn)室分析測(cè)試中心; 洛陽471000

摘要:應(yīng)用電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS),對(duì)多晶硅料塊表面金屬雜質(zhì)Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素進(jìn)行檢測(cè)。本文研究了樣品的處理方法,確定了適宜的實(shí)驗(yàn)條件,使用該方法能準(zhǔn)確、快速的檢測(cè)多晶硅表面的金屬雜質(zhì)含量,適用于商用實(shí)驗(yàn)室中的檢測(cè),符合企業(yè)中工業(yè)化的檢測(cè)需求。其檢測(cè)方法對(duì)多晶硅中的金屬雜質(zhì)Fe,Cr,Ni,Cu,Zn,Na,元素的檢出限達(dá)到0. 01ng/g左右,精密度較好,Fe的加標(biāo)溶液的回收率為90!109%,滿足痕量雜質(zhì)檢測(cè)的要求。

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中國(guó)檢驗(yàn)檢測(cè)

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